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入門フォトマスク技術 貸出可

田邉 功／著 -- 工業調査会 -- 2006.12 -- 549.7

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
JSR /549.7/ﾆ/ 116001371 成人一般 可能 iLisvirtual

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タイトル 入門フォトマスク技術
タイトルカナ ニュウモン フォトマスク ギジュツ
副書名 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
著者 田邉 功 ／著, 竹花 洋一 ／著, 法元 盛久 ／著  
著者カナ タナベ イサオ,タケハナ ヨウイチ,ホウガ モリヒサ
出版者 工業調査会
出版年 2006.12
ページ数 323p
大きさ 21cm
一般件名 リソグラフィー
ISBN 4-7693-1259-8 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
言語 jpn
分類記号 549.7
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
著者紹介 千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。(有)ITコンサルティング代表取締役社長。

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