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微細加工技術基礎編貸出可

高分子学会／編 -- エヌ・ティー・エス -- 2002.9 -- 549.95

所蔵

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所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
JSR	/549.9/ﾋﾞ/	115999534	成人一般	可能

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資料詳細

タイトル	微細加工技術基礎編
タイトルカナ	ビサイカコウギジュツ
叢書名	ポリマーフロンティア21シリーズ
著者	高分子学会／編
著者カナ	コウブンシガッカイ
出版者	エヌ・ティー・エス
出版年	2002.9
ページ数	192,5p
大きさ	27cm
一般件名	オプトエレクトロニクス , 半導体
ISBN	4-86043-006-9
分類記号	549.95

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内容一覧

タイトル	著者名	ページ
近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工	大津元一／述	3-37
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法	河田聡／述	41-73
自己組織化的手法による微細加工	益子信郎／述	77-98
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望	下田達也／述	101-142
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価	東博純／述	145-170
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発	緒方寿幸／述	173-192

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