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資料詳細

フォトマスク技術のはなし貸出可

田辺功／[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1996.8 -- 549.7

所蔵

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所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
地下書庫	/549.7/ﾌ/	112981048	成人一般	可能

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資料詳細

タイトル	フォトマスク技術のはなし
タイトルカナ	フォトマスクギジュツノハナシ
副書名	超LSI、液晶、プリント板を支える
著者	田辺功／[ほか]共著
著者カナ	タナベイサオ
出版者	工業調査会
出版年	1996.8
ページ数	262p
大きさ	21cm
一般件名	リソグラフィー
ISBN	4-7693-1149-4
分類記号	549.7
内容紹介	フォトマスクは透明なガラス板の上に電子回路のパターンを光を通さない材料で形成した部品である。LSIなどの生産に欠かせないこの技術を紹介する。

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