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イオン応用機器概論 貸出可

磯部 昭二／[ほか]著 -- 開発社 -- 1994.3 -- 549.1

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
閲覧室 /549.1/ｲ/ 112754130 成人一般 可能 iLisvirtual

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タイトル イオン応用機器概論
タイトルカナ イオン オウヨウ キキ ガイロン
著者 磯部 昭二 ／[ほか]著  
著者カナ イソベ ショウジ
出版者 開発社
出版年 1994.3
ページ数 135p
大きさ 22cm
一般件名 イオンビーム
ISBN 4-7591-0086-5 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類記号 549.1
内容紹介 真空中でイオンを応用する機器の概論。内容は、半導体へのイオン注入、金属改質イオン注入、イオンプレーティング、ダイナミックミキシング、クラスターイオンビーム、イオンビームスパッタなどの薄膜形式など機器の側から概説したもの。

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